ຖ້າ 3-amino-5-mercapto-1,2 ຖືກ nqus, 4-triazole, ກະລຸນາຍ້າຍຄົນເຈັບໄປສູ່ອາກາດສົດ; ໃນກໍລະນີທີ່ມີການຕິດຕໍ່ຜິວ ໜັງ, ຖອດເສື້ອຜ້າທີ່ປົນເປື້ອນແລະລ້າງຜິວໃຫ້ສະອາດດ້ວຍນ້ ຳ ແລະສະບູ. ຖ້າທ່ານຮູ້ສຶກບໍ່ສະບາຍ, ຂໍ ຄຳ ແນະ ນຳ ຈາກແພດ; ຖ້າທ່ານຕິດຕໍ່ສາຍຕາຢ່າງຈະແຈ້ງ, ແຍກຂົນຕາ, ລ້າງດ້ວຍນ້ ຳ ທີ່ໄຫຼຫຼືເຄັມ ທຳ ມະດາ, ແລະໄປຫາແພດທັນທີ; ຖ້າກິນເຂົ້າທັນທີ, ຮວບຮວມທັນທີ, ຢ່າເຮັດໃຫ້ຮາກ, ແລະໃຫ້ ຄຳ ແນະ ນຳ ທາງການແພດທັນທີ.

ມັນຖືກນໍາໃຊ້ໃນການກະກຽມການແກ້ໄຂການເຮັດຄວາມສະອາດ photoresist

ໃນຂະບວນການຜະລິດແບບ LED ແລະ semiconductor ທົ່ວໄປ, ໜ້າ ກາກຂອງຊ່າງຖ່າຍຮູບແມ່ນຖືກສ້າງຕັ້ງຂື້ນເທິງພື້ນຜິວຂອງວັດສະດຸບາງຢ່າງ, ແລະຮູບແບບຈະຖືກຍົກຍ້າຍຫຼັງຈາກ ສຳ ຜັດ. ຫຼັງຈາກໄດ້ຮັບຮູບແບບທີ່ ຈຳ ເປັນ, ຊ່າງຖ່າຍຮູບທີ່ຕົກຄ້າງ ຈຳ ເປັນຕ້ອງໄດ້ຖອດອອກກ່ອນຂະບວນການຕໍ່ໄປ. ໃນຂະບວນການນີ້, ມັນ ຈຳ ເປັນຕ້ອງ ກຳ ຈັດຊ່າງຖ່າຍຮູບທີ່ບໍ່ ຈຳ ເປັນອອກຢ່າງສິ້ນເຊີງໂດຍບໍ່ຕ້ອງ ທຳ ລາຍແຜ່ນຍ່ອຍໃດໆ. ໃນປະຈຸບັນ, ວິທີແກ້ໄຂການເຮັດຄວາມສະອາດຊ່າງຖ່າຍຮູບສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນສ່ວນປະກອບຂອງສານລະລາຍອິນຊີຂົ້ວ, ເປັນດ່າງ alkali ແລະ / ຫຼືນ້ ຳ, ແລະອື່ນໆ. .

ວິທີແກ້ໄຂ ທຳ ຄວາມສະອາດຊ່າງຖ່າຍຮູບປະເພດ ໃໝ່ ໄດ້ຖືກພັດທະນາ, ເຊິ່ງເປັນສານສະກັດທີ່ບໍ່ແມ່ນທາດເຫລັກ. ມັນປະກອບມີ: amine ເຫຼົ້າ, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole ແລະ cosolvent. ວິທີແກ້ໄຂການເຮັດຄວາມສະອາດຊ່າງຖ່າຍຮູບແບບນີ້ສາມາດຖືກ ນຳ ໃຊ້ເພື່ອ ກຳ ຈັດ photoresist ໃນໄຟ LED ແລະ semiconductor. ໃນເວລາດຽວກັນ, ມັນບໍ່ມີການໂຈມຕີຕໍ່ຊັ້ນໃຕ້ດິນເຊັ່ນອາລູມິນຽມໂລຫະ. ມີຫຍັງເພີ່ມເຕີມ, ລະບົບມີຄວາມຕ້ານທານນ້ ຳ ທີ່ເຂັ້ມແຂງແລະເປີດກວ້າງປ່ອງຢ້ຽມປະຕິບັດງານຂອງມັນ. ມັນມີຄວາມສົດໃສດ້ານຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ດີໃນຂົງເຂດຂອງການເຮັດຄວາມສະອາດ chip LED ແລະ semiconductor.